Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», создали первые в стране установки для производства интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нанометров на пластинах диаметром 200 и 300 миллиметров. Об этом со ссылкой на сообщение компании пишут «Ведомости».
В комментарии журналистам гендиректор НИИМЭ Александр Кравцов объяснил, что результат делает Россию одним из технологических лидеров, ведь она стала лишь четвертым в мире производителем, который в состоянии выпускать такие комплексы.
Ведущие производители микросхем выпускают чипы по технологии 2 нанометра и ниже, а на топологии 65 нанометров работала продукция 20-летней давности. Тем не менее микросхемы по топологическим нормам 28-90 нанометров активно используются в автопроме и авиакосмической промышленности, системах автоматизации управления.
Замглавы Минпромторга Василий Шпак отметил, что установки для уровня 65 нанометров на пластинах 300 миллиметров обеспечат перспективную потребность отечественной микроэлектроники. Также он добавил, что модульность платформы позволит отрабатывать процессы и послужит основой для перехода к более тонким техпроцессам.
Разработчики думают об экспорте оборудования в другие страны, и в следующем году они намерены показать установки в Китае. «Такое оборудование не производится сотнями в год. И в наших условиях один-два комплекта в год будет большая победа», — сказал Кравцов.
При этом в конце прошлого месяца Шпак отмечал, что программа по развитию электронного машиностроения в России сталкивается с нехваткой финансирования. В прошлом году из запланированных 43,3 миллиарда рублей разработчики смогли получить только 23,7 миллиарда, а в 2025-м — 15,7 миллиарда из предполагаемых 40 миллиардов.
Ранее сообщалось, что план по развитию электроники и микроэлектроники в стране до 2030 года предполагает серийный выпуск микросхем по топологии 65 нанометров в 2028 году.